关于离子研磨仪的应用主要是根据氩离子的特性对样品进行平面研磨，采用这种设备研磨出的样品不会像传统切割机或机械抛光那样造成变形错位，因此用它进行研磨，数据一般都是非常准确的，下面为大家介绍下离子研磨仪的主要特点及操作步骤

主要特点：CP可以一步到位地制备出镜面样品。它几乎可以适用于各种材料，包括难以抛光的软材料，如铜、铝、金、焊料和聚合物等；以及难以切割的材料，如陶瓷和玻璃等。配套的高级CCD显微镜，可以精确地把样品定位在几个微米大小的剖面位置上。制备过程中，自动控制样品摇摆，以避免产生表面划痕。由于离子束水平入射、氩离子不会渗入样品表面。

操作步骤：

① 在控制氧气浓度和温度的手套箱内，将样品置于真空转移盒内，并旋紧密封盖。
② 取出真空转移盒，安装到离子研磨仪上。
③ 在真空样品仓内取下密封盖。
④ 离子研磨加工
⑤ 真空环境下盖紧密封盖
⑥ 打开密封盖，拉出样品杆。
⑦ 选择支持真空转移样品的SEM进行样品观察5 。

关于离子研磨仪的应用变得越来越广泛，其中最具代表性的是日立公司生产的IM4000PLUS离子研磨仪。是一款搭载截面研磨和平面研磨两种功能的复合型离子研磨仪。它的功能强大，用途广泛，杰星科技目前作为代理，可以为您提供这方面的指导及解决方案，如果您有采购离子研磨仪的需求可以与我们联系，杰星科技，您的实验室采购专家。