金相制样的终极目的就是制备平整镜面，用于腐蚀后观测，或者直接观测。磨抛的重要性显而易见。如果说切割和镶嵌都是制样的前期步骤的话，那么磨抛就是制样环节中最为重要的步骤。有幸避开了切割和镶嵌工序的小伙伴，在磨抛阶段要更加谨慎仔细，稍有不慎便会功亏一篑。

　　磨抛分为磨平和抛光两个阶段。磨平的目的是快速去除切割留下的粗糙表面，获取平整的新鲜表面。而抛光则是逐级提高样品表面的粗糙度，直至达到光学观测的镜面水平。

　　对于高端的设备而言，磨平和抛光都可以在一台机器上完成。而对于耗材而言，磨平和抛光有大的不同。

　　磨平阶段，是相当于制样阶段的粗加工，需要粗磨粒的快速磨削，通常用碳化硅砂纸或者金刚石磨盘，基本不需要外加磨粒，加注大量的水即可。

　　抛光是样品磨削的精加工阶段，对材料的表面亲和力以及材料去除的难易程度非常敏感，通常抛光盘是载体，抛光液是磨粒载体，二者搭配使用，比如抛光盘的材质有丝绸，羊绒，化工显微，橡胶，绒布等，不同材质与纺织特点决定了他们对磨粒的储存特性和磨削特性；对于抛光液而言，多以金刚石磨粒，多晶金刚石刃口丰富，磨削速度快，有效避免边缘圆化，单晶成本较低，普通应用可以应付。对于精细终抛的时候，有很多的氧化物抛光液，粒度可以做到1微米以下。

　　目前金刚石磨盘得到了越来越多的应用，特别是精磨阶段，快速简单，并且可以反复多次使用，寿命很长，所以综合性价比很高。

　　通常来说磨平阶段的磨粒直径在100微米以上，所以基础划痕自然也在100微米上下，抛光的过程就是逐级降低划痕大小，最终在1微米以内，常规光学倍数下面不可见，适合直接观测分析，或腐蚀后进行观测分析。由此可见，磨抛就是一个微细的材料平面磨削过程，磨削介质有两个来源，磨盘和悬浮液。特别是抛光的初级阶段，磨粒来源与磨盘，磨盘面可以是砂纸，也可以是带有金刚石或其他类型磨粒的研磨盘，这个过程也可以辅以悬浮液来强化研磨效果。在抛光的后期阶段，磨盘是不同类型的面料，本身不包含磨粒，但是可以收纳存储来自于悬浮液的磨粒。

　　磨抛的目标是逐级消除划痕，宏观上是材料磨削的物理过程。事实上由于应力的原因，样品表面处于一种高能的状态，很容易与水、空气、磨削介质等发生电化学反应，所以不同材质的样品对磨抛耗材的搭配很是讲究，需要大量的尝试积累才能找到有效且简便的方法。