金相磨抛机通过以下步骤完成磨抛过程，其核心原理是利用磨料和抛光剂对样品表面进行物理和化学作用，逐步去除表面不规则和杂质，最终获得光滑平整的表面：

一、准备工作

1. 样品准备：准备与磨抛机样品夹尺寸一致的样品，通常通过镶嵌获得规则的样品，以便后续直接放入夹具中，或通过粘贴等其他方式将样品固定于样品夹上。
2. 耗材选定：根据样品材质和流程，选定当前步骤用的砂纸、金刚石磨盘、抛光液及抛光布，并固定在磨抛机底盘上。若当前步骤为抛光，需将抛光布润湿，并在抛光过程中喷洒适量抛光液。

二、操作流程

1. 固定样品：将控制样品夹具的动力头放下，确保样品已夹持牢固且平整地与磨盘接触。

2. 参数设置：通过控制面板设置载荷、转速、时间等参数。部分机型支持参数存储功能，可直接调用预设方案。

3. 启动磨抛：启动设备后，磨抛盘高速旋转，通过摩擦力与磨料作用逐步去除样品表面材料。粗磨阶段使用粗粒度磨料，精磨阶段换用细粒度磨料，抛光阶段则使用抛光剂和抛光布。

4. 多级处理：

   • 粗磨：去除样品表面氧化层和较大颗粒。
   • 精磨：使用更细磨料细化表面。
   • 抛光：通过抛光剂与抛光布作用，消除微小划痕并提升表面光洁度。

5. 过程监控：操作人员需实时观察磨抛效果，必要时调整参数或更换耗材。

三、关键技术细节

1. 磨料与压力控制：磨盘表面粘附金刚砂、铝氧化物等磨料，通过加压装置使样品与磨盘产生摩擦力。不同粒度磨料对应不同加工阶段，压力调节功能可优化磨削效率与表面质量。
2. 速度与时间控制：设备配备无级调速功能，转速范围通常为50-1500转/分钟。定时功能确保各阶段加工时间精确，避免过磨或欠磨。
3. 冷却系统：抛光过程因摩擦产生热量，设备通过液体冷却系统（如水冷）降低操作温度，防止样品热损伤。
4. 压力与速度调节：设备支持压力调节（如1-40N单点压力）和转速调节（如50-1500转/分钟），可针对不同材料特性优化加工参数。

四、完成与清理

1. 清洗样品：磨抛结束后，彻底清洗样品以去除残留磨料和抛光剂。
2. 设备维护：清理磨抛盘和夹具，检查冷却系统状态，为下一次使用做好准备。