金刚石抛光液包括聚晶、单晶和纳米3种不同类型的抛光液。它是由优良的金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样化，对应不同的研抛过程和工件，适用性强。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定，广泛用于硬质材料的研磨和抛光。

　　上海杰星生物科技有限公司一直专注于金相设备及材料的研发、生产与销售，独立开发了一系列的金相设备与金相耗材料。

　　本产品是利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。主要用于兰宝石衬底、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

　　金刚石抛光液的正确使用方法是什么呢？

　　1、将水基纳米金刚石用于硅片抛光。用海藻酸钠、羧甲基纤维素钠、活性剂以及去离子水配制抛光液。对超分散纳米金刚石抛光硅片进行了研讨，并对干法抛光和抛光波湿法抛光进行了比照。干法抛光液使硅片粗糙度Ra从107nrn降到4nm。运用水基纳米抛光液湿法抛光，抛光效率更高，并且硅片的粗糙度更小，到达4nrn。

　　2、一种水基纳米抛光液经过去离子水中加入纳米金刚石、改性剂、分散剂、超分散剂、pH调理剂、润湿剂、具有化学作用的添加剂经过超声搅拌将纳米金刚石分散成20~100nm的小体，制成抛光液。用于各种光电子晶体、计算机硬盘基片、光学元器件及铜衔接的半导体集成电路等的超精细抛光。用于硅片抛光，外表粗糙度达0.214nm。

　　3、一种用于存储器硬盘磁头反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三个碳的烷羟矿物油、十五个碳的油性剂、金刚石单晶微粉、抗氧化防腐剂、非离子活性剂、消泡剂和抗静电剂，将该抛光剂用于磁头反面抛光。研磨后外表划痕、外表粗糙度是0.3~0.4nm。

　　4、纳米抛光液及其制造法的创造以轻质白油为介质，参加非离子活性剂、抗静电剂、净洗剂以及pH调理剂制备了波动性较好的纳米抛光液。除了用于计算机磁头之外，还可以用于光学器件和陶瓷等高精度研磨和抛光之用。

　　5、对中等粒度纳米金刚石抛光液用于磁头抛光工艺进行了研讨。纳米金刚石颗粒越细，抛光粗糙度越小、但是二者并不构成复杂的线性关系。抛光液的分散波动性很大水平上影响了外表划痕。抛光液的波动分散是很重要的。制备一种水性纳米抛光液，经过三乙醇胺调整pH值后，用来抛光氧化铝工件，这种抛光液使得被加工工件外表更容易清洗。

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