研磨和抛光是同一种机械运动，原理是一样的。而对于表面处理的情况而言，抛光的表面光洁度比研磨要更高一些。其实抛光液可以说是研磨的后道工序，可以在同一台平面抛光机上同时实现研磨和抛光。研磨分为粗磨，精磨，抛光则分为粗抛，精抛。很多时候我们都是三道工序来进行产品表面质量的加工：粗磨，精磨，精抛。有了这三道工序，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相当高了。

    针对不同客户的研磨的不同要求，研磨分为粗磨和精磨2类，有些客户对研磨的进度并没有那么高，对于粗糙度要求来说只采用粗磨和精磨两道工序。具体还是要看进行磨抛的工件本身质量来说，以及客户要求达到的质量和要求而定。

    研磨和抛光可以在同一台平面抛光机上实现，但是所用的配置却不一样。研磨需要用研磨盘和研磨液，抛光则是用抛光液和抛光盘，抛光垫，抛光布，抛光轮等。所用在一台平面抛光机上实现研磨和抛光时需要研磨后更换盘，液体等配置。

    综上所述在研磨的过程中设计到的产品或者辅助配件主要有研磨盘、研磨液、抛光布。

    第一、研磨盘研磨抛光机的研磨盘主要是由各种金属粉末熔化后铸造而成。这些金属粉末具备一定的韧性和脆性，有很强的磨削能力，能快速地将各种工件表面打磨抛光。研磨盘的材质有多种，常见的有钨钢、氧化铝、氧化铈、合成铁或铜等。具体使用什么样的材质可以根据不同的使用条件或者介质来决定。

    金刚石研磨盘：指用于研磨机上的盘式磨具，由盘体和金刚石磨快组成，金刚石焊接或镶嵌在盘体上，通过磨机的高速旋转对工作面实施平整打磨。

    金刚石研磨盘主要应用：在玉石、寿山石、水晶、玛瑙、工艺品。近年来已在电子、光电、玻璃制品、电子管、晶体、工艺品、水晶灯饰、精密加工等行业广泛使用。产品远销中东，东南亚、欧洲以及香港、台湾等市场。

    第二、研磨液研磨盘不可以单独使用在研磨介质上面，必须要由研磨液或者抛光液配合使用。研磨液一方面可以降低研磨盘加工时的工作温度，另一方面可以起到润滑的作用，不会给加工件造成损害。研磨液一般有水剂和油剂两种类型，最简单的水剂研磨液可以是简单的肥皂水，一般可以自制而成，这种研磨液制作成本非常低，但是没有什么防锈能力，所以不太适合研磨金属制品。而油剂研磨液是按照适当的比例调制有机溶剂而制成的，这种溶剂最大的缺陷就是制作费用较高。

    研磨液按其作用机理分：机械作用研磨液，化学机械作用研磨液。

    机械作用的研磨液：以金刚石、B4C等为磨料，通过添加分散剂等方式分散到液体介质中，从而形成具有磨削作用的液体，称为金刚石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游离分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，实现工件的研磨、减薄。根据磨料的表面、颗粒大小及研磨液配置、研磨设备稳定性等情况，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的划痕。所以，机械作用的研磨液一般用于粗磨，后续还需要精密研磨抛光。

    化学机械作用的研磨液：化学机械作用研磨液利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的抛光表面，是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，它借助超微粒子的研磨作用和化学腐蚀作用在被研磨的介质表面形成光洁平坦表面。所以化学机械作用研磨液又称为化学机械抛光液(ChemicalMechanicalPolishing,简称CMP)。在一定压力及抛光浆料存在下，被抛光工件相对于抛光垫作相对运动，借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合，在被研磨的工件表面形成光洁表面。

    化学机械抛光液，根据磨料不同的分类：

    二氧化硅研磨液，氧化铈研磨液，氧化铝研磨液等。

    金刚石研磨液根据磨料不同的分类：

    金刚石研磨液是由金刚石磨料与分散液组成，根据金刚石微粉的类型分为单晶金刚石研磨液、多晶金刚石研磨液和爆轰纳米金刚石研磨液三种。

    1、单晶金刚石研磨液

    单晶金刚石研磨液具有良好的切削力，加工成本相对较低。广泛适用于超硬材料、硬质合金等硬质材料的研磨抛光。既可以提高磨削速率，又可以将磨削过程中产生的大量热量迅速排走，从而避免工件表面被烧伤。

    2、多晶金刚石研磨液

    多晶金刚石研磨液利用多晶金刚石良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤，为后续精密抛光加工提供了良好的条件。广泛用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。

    第三、抛光布

    抛光布的使用可以提高抛光盘的效率，同时也可以对抛光盘和抛光介质起到很好的保护作用。但是抛光布有一定的使用期限，而且不同规格的抛光布对工作温度也有一定的要求。

    研磨抛光机的合理使用离不开上述三种基本辅助材料。它对抛光的质量和抛光机的使用寿命有非常重要的影响。

    抛光布轮，主要是用布做成轮式用来抛光，是抛光机器常用的耗材之一，主要应用于打磨的最后工序抛光，也叫镜面处理，抛光布具有很好的柔软性和轻微的磨削力。抛光布的抛光主要目的在于去除研磨引入的表面损伤，获得便于纤维观测的光亮面。根据不同试样材料及抛光工序，不同材质的抛光布应用领域也存在差异。

    根据抛光布背部状态，分为三大类：

    1.自粘性衬背抛光布（带背胶）：带粘性背面，可黏贴于磨盘、转化盘或磁性盘上，便于更换。

    2.非粘性抛光布（不带背胶）：非粘性背面，配套压圈固定使用。

    3.磁性衬背抛光布：又名磁性抛光盘，金属背面，直接牢固磁吸于工作台，大大方便抛光布的定位、拆除，存储。

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