粗磨，精磨和精抛是研磨抛光机上的三道不同的工序，在平面研磨机进行研磨时，我们都要根据工件的情况，确定由哪些工序来实现最终效果。为何有这样不同的工序存在呢？其原因是为了根据工件的特性实现不同程度的研磨抛光效果。

    由于这三种工序的存在有着区别，所以三道工序分别所用的研磨材料都是不一样的。一般情况下，我们在研磨抛光机上能用到的耗材有：研磨液，抛光液，研磨盘，抛光盘，抛光垫。粗磨，精磨，抛光在实现的过程中对于研磨耗材的选择具有以下特点：

    1.粗磨选择的耗材是：粗磨液，粗磨盘。这两种耗材的成分里面，主成分的材质稍微较粗，要求硬度较高，颗粒度较大，这样才有较好的切削力。比如：铸铁盘

    2.精磨选择的耗材是：精磨液，精磨盘。这两种耗材相对要求要高一点，需要材质更为精细，颗粒非常小的原材料生产。比如：氧化铝，锡盘

    3.精抛选择的耗材是：精抛液，精抛盘。这个耗材要求最高，对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。砂轮也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。比如：铜盘，二氧化硅抛光液等。

    以上就是三种工艺所用耗材的具体搭配方式，从中我们可以得出，各个工艺所用的研磨耗材都不相同，存在着较大的差异，所以我们在选择工序时一定要听从专业研磨工程师的意见，按照工件本身所需的情况进行处理，不可在生产中随意改动，否则会浪费耗材而得不到研磨效果。

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